Applications:

• Transfert- Transfert manuel de photomasques et de réticules entre les boîtes de rangement de la bibliothèque de masques de l’entrepôt et les boîtes de masques de production telles que les pods SMIF de réticule (RSP), les boîtes de réticule de cartouche Nikon ou les boîtes de réticule de cartouche Canon.
• Inspection- Effectuer des macro-contrôles d’intégrité pendant le transfert, où les opérateurs de manipulation des masques inspectent visuellement les masques pour détecter l’identification du code-barres, les particules, les défauts de chrome, la contamination ou les dommages au cadre ou au film de la pellicule.
• Gouttières de masque - Chargement et déchargement d’outils d’alignement de masques de photolithographie à l’aide de pics de masques.
• Métrologie- Chargement et déchargement de microscopes et d’outils de métrologie pour l’inspection de masques et de réticules à l’aide de pics de masques.
• Nettoyage- Manipulation des photomasques lors d’applications de nettoyage régulières telles que le nettoyage ponctuel et le nettoyage complet au solvant par immersion.
• Magasins de masques - Couramment utilisé dans les zones de production de fabrication et de réparation de masques dans les magasins de masques.
   

La série WHS-L2 est un médiator mécanique de précision, normalement fermé (force constante), conçu pour la manipulation horizontale des photomasques de 5 » à 9 ». En s’agrippant à partir du bord tangentiel, le WHS-L2 réduit les risques de contamination en éliminant le contact avec les surfaces chromées sensibles, ce qui le rend idéal pour les processus critiques de semi-conducteurs.

Fabriqué à partir de matériaux avancés, le WHS-L2 assure une durabilité à long terme avec des propriétés antistatiques et une excellente résistance chimique. Il est conçu pour être utilisé dans les salles blanches ISO 3 (FS209E Classe 1), répondant aux normes les plus élevées en matière de propreté et de contrôle de la contamination.

Le WHS-L2 est très polyvalent et adapté à un large éventail d’applications, y compris les transferts manuels de photomasques et de réticules entre les boîtes de stockage et les environnements de production tels que les réticules SMIF Pods, Nikon et les boîtes de réticules Canon. Il est également idéal pour les inspections de macro-intégrité pendant les transferts, permettant aux opérateurs de vérifier les identifiants de code-barres, les particules, les défauts de chrome et les dommages au cadre ou au film de la pellicule. L’outil est en outre optimisé pour une utilisation dans les aligneurs de masques et les équipements de métrologie.

Le WHS-L2 est livré avec un support de piédestal de table spécialement conçu qui maintient le médiator du masque propre et protégé des dommages entre les utilisations, améliorant ainsi sa longévité et maintenant ses performances.

Fabriqué dans une usine certifiée ISO9001 et certifié CE, le WHS-L2 répond aux normes internationales de qualité et de sécurité, offrant une solution robuste et fiable pour la manipulation des photomasques dans la fabrication de semi-conducteurs et les ateliers de masques.